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                                        多尺度模拟方法在半导体材料位移损伤研究中的应用
                                     |  | ISBN: | 9787030764690 | 定价: | ¥150.00 |  | 作者: | 贺朝会[等]著 | 出版社: | 科学出版社 |  | 出版时间: | 2023年09月 | 开本: | 24cm |  | 页数: | 198页 | 装祯: | 平装 |  中图法: | TN304 |  
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                                        | 供货商名称 | 库存量 | 库区 | 更新日期 |  
                                    | 北京人天书店有限公司 | 26 | 库区7/样本7 | 2025-10-31 |  
                                    | 其它供货商库存合计 | 202 |  | 2025-10-31 |  
                            
                                | 图书简介 |  | 本书从位移损伤的概念和特点入手,引入位移损伤缺陷的产生及演化模拟研究涉及的模拟方法,系统介绍了不同尺度的模拟方法,包括辐射与材料相互作用模拟方法、分子动力学方法、动力学蒙特卡罗方法、第一性原理方法、器件电学性能模拟方法等,并分别给出了多尺度模拟方法在硅、砷化镓、碳化硅、氨化镓材料位移损伤研究中的应用,实例展示多尺度模拟方法的具体应用,期望帮助相关科研人员掌握多尺度模拟方法。此外,不同于多尺度模拟方法的简单教程,本书通过多尺度模拟研究揭示的位移损伤规律更具学术意义,研究成果对理解辐射在半导体材料中的位移损伤机理有重要价值。 |  |