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图书信息
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试验设计方法在印制电路制造中的应用
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| ISBN： | 9787577009667 |
定价： | ￥68.00 |
| 作者： | 陈苑明主编 |
出版社： | 电子科技大学出版社 |
| 出版时间： | 2024年03月 |
开本： | 24cm |
| 页数： | 242页 |
中图法： | TN41 |
相关供货商
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供货商名称
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库存量
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库区
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更新日期
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北京人天书店有限公司
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1
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库区4
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2026-07-26
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其它供货商库存合计
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514
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2026-07-17
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图书简介 | | 本书共七章内容，重点阐述了正交试验设计、因子设计法、单纯形优化法、均匀设计法、回归分析法、响应曲面法等常用试验设计方法的基本内容，并应用于印制电路离子清洗、无氰镀金、激光切割、通孔/盲孔电镀、机械钻孔、激光钻孔、层间压合、陶瓷材料等制造参数的优化，同时在优化案例部分提供了Minitab、DPS等数据处理软件的实际操作指导和数据结果分析方法，力求让读者较为系统地理解和吸收试验设计方法及其在印制电路制造优化中的应用效果。 |
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