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图书信息
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半导体微缩图形化与下一代光刻技术精讲
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| ISBN： | 9787111777731 |
定价： | ￥99.00 |
| 作者： | (日)冈崎信次主编 |
出版社： | 机械工业出版社 |
| 出版时间： | 2025年04月 |
开本： | 24cm |
| 页数： | 162页 |
装祯： | 平装 |
中图法： | TN305.7 |
相关供货商
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供货商名称
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库存量
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库区
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更新日期
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北京人天书店有限公司
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83
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库区13/库区3/库区4/库区7/样本13/样本3/样本4/样本7
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2026-08-20
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其它供货商库存合计
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377
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2026-08-19
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图书简介 | | 本书共14章，内容包括光掩膜、下一代光刻技术发展趋势、EUV掩膜技术、纳米压印技术、电子束刻蚀技术与设备开发、定向自组装(DSA)技术、光刻胶材料的发展趋势、含金属光刻胶材料技术、多重图形化中的沉积和刻蚀技术、光散射测量技术、扫描探针显微镜技术等。 |
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