同类推荐
-
-
图解功率半导体
-
¥79.00
-
-
图解功率半导体
-
¥79.00
-
-
图解功率半导体
-
¥79.00
-
-
碳化硅MOSFET封装、驱动及应用
-
¥79.00
-
-
碳化硅MOSFET封装、驱动及应用
-
¥79.00
-
-
碳化硅MOSFET封装、驱动及应用
-
¥79.00
-
-
超宽禁带半导体金刚石单晶材料和场效应晶体管
-
¥139.00
-
-
超宽禁带半导体金刚石单晶材料和场效应晶体管
-
¥139.00
-
-
超宽禁带半导体金刚石单晶材料和场效应晶体管
-
¥139.00
-
-
功率半导体器件原理及设计
-
¥69.00
|
|
图书信息
|
|
|
|
半导体微缩图形化与下一代光刻技术精讲
|
| ISBN： | 9787111777731 |
定价： | ￥99.00 |
| 作者： | (日)冈崎信次主编 |
出版社： | 机械工业出版社 |
| 出版时间： | 2025年04月 |
开本： | 24cm |
| 页数： | 162页 |
装祯： | 平装 |
中图法： | TN305.7 |
相关供货商
|
供货商名称
|
库存量
|
库区
|
更新日期
|
|
北京人天书店有限公司
|
95
|
库区13/库区3/库区4/库区7/样本13/样本3/样本4
|
2026-02-15
|
|
其它供货商库存合计
|
269
|
|
2026-02-13
|
图书简介 | | 本书共14章，内容包括光掩膜、下一代光刻技术发展趋势、EUV掩膜技术、纳米压印技术、电子束刻蚀技术与设备开发、定向自组装(DSA)技术、光刻胶材料的发展趋势、含金属光刻胶材料技术、多重图形化中的沉积和刻蚀技术、光散射测量技术、扫描探针显微镜技术等。 |
|