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图书信息
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先进光刻机曝光系统光学设计
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| ISBN： | 9787030860217 |
定价： | ￥120.00 |
| 作者： | 李艳秋著 |
出版社： | 科学出版社 |
| 出版时间： | 2026年07月 |
开本： | 24cm |
| 页数： | 177页 |
装祯： | 平装 |
中图法： | TN305.7 |
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更新日期
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202
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2026-07-02
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图书简介 | | 本书在介绍了光刻机曝光系统光学设计的发展历程的基础上，概括总结了作者团队在先进光刻机曝光系统设计方面的创新型成果。针对45-28-14-10-7-5-3nm及以下技术节点DUV和EUV光刻机曝光系统该设计需求，首先阐述了深紫外光刻投影物镜系统的初始结构分组设计方法，实现了高性能浸没DUV光刻物镜设计。创新性建立了深紫外光刻照明系统初始结构参数的双向设计方法，实现了高性能DUV照明系统的设计。针对NA0.33和NA0.55EUV光刻投影物镜系统需求，创新性建立了双向真实光线追迹的EUV初始结构的分组设计方法，实现了高性能极紫外光刻机物镜的优化设计。同时建立了极紫外光刻照明系统的逆向设计方法，实现了高性能的EUV照明系统设计，很好地匹配了NA0.33和NA0.55的极紫外光刻投影物镜需求。可满足45-28-14-10-7-5-3nm及以下技术节点先进光刻机曝光系统的性能要求。 |
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