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图书信息
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先进光刻机曝光系统光学设计
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| ISBN： | 9787030860217 |
定价： | ￥120.00 |
| 作者： | 李艳秋著 |
出版社： | 科学出版社 |
| 出版时间： | 2026年07月 |
开本： | 24cm |
| 页数： | 177页 |
装祯： | 精装 |
中图法： | TN305.7 |
相关供货商
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供货商名称
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库存量
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库区
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更新日期
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北京人天书店有限公司
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43
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库区4/泰安展厅库/样本4
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2026-08-17
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其它供货商库存合计
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221
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2026-08-14
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图书简介 | | 本书内容包括光刻机发展历程以及深紫外/极紫外光刻机曝光系统光学设计的发展历程；光刻机曝光系统光学设计基础；浸没式深紫外光刻机物镜系统光学设计基础、方法与系统设计；深紫外光刻机照明系统光学设计基础、方法与系统设计；极紫外光刻机匀倍率/变倍率物镜系统光学设计基础、方法与系统设计；极紫外光刻机匀倍率/变倍率照明系统光学设计基础、方法与系统设计。 |
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