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图书信息
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衍射极限附近的光刻工艺
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| ISBN： | 9787302676119 |
定价： | ￥368.00 |
| 作者： | 伍强等编著 |
出版社： | 清华大学出版社 |
| 出版时间： | 2024年11月 |
版次： | 2版 |
| 开本： | 26cm |
页数： | 22,672页 |
| 装祯： | 精装 |
中图法： | TN305.7 |
相关供货商
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供货商名称
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库存量
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库区
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更新日期
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北京人天书店有限公司
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9
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库区4/泰安展厅库/样本4
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2026-11-13
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其它供货商库存合计
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508
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2026-11-13
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图书简介 | | 本书以光刻工艺为主线，将光刻设备、光刻材料、光刻成像的理论计算、光刻工艺中各种建模思想和推导、芯片制造的技术发展要求，以及对光刻工艺各项参数的要求紧密地联系在一起，为读者展现一个整体的图景。本书是一部极具深度和广度的光刻工艺技术著作，覆盖多学科领域，体系结构完整，内容系统全面，数据资料翔实，论述严谨，可读性强。本书的出版将帮助读者全面、深入地了解光刻技术，推动光刻技术各领域的交流和协同，促进人才培养、技术进步和产业发展。 |
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