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图书信息
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先进计算光刻
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| ISBN： | 9787030781246 |
定价： | ￥130.00 |
| 作者： | 李艳秋[等]著 |
出版社： | 科学出版社 |
| 出版时间： | 2024年04月 |
开本： | 24cm |
| 页数： | 233页 |
装祯： | 精装 |
中图法： | TN405.98 |
相关供货商
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供货商名称
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库存量
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库区
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更新日期
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北京人天书店有限公司
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18
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库区4/库区7/样本4/样本7
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2025-10-22
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其它供货商库存合计
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202
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2025-10-22
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图书简介 | | 本书主要介绍作者在20余年从事光刻机研发中，建立的先进计算光刻技术，包括矢量计算光刻、快速-全芯片计算光刻、高稳定-高保真计算光刻、光源-掩模-工艺多参数协同计算光刻等，能够实现快速-高精度-全曝光视场-低误差敏感度的高性能计算光刻。矢量计算光刻包括零误差、全光路严格的矢量光刻成像模型及OPC和SMO技术。快速-全芯片计算光刻包括压缩感知、贝叶斯压缩感知、全芯片压缩感知计算光刻技术。高稳定-高保真计算光刻包括低误差敏感度的SMO技术、全视场多目标SMO技术、多目标标量和矢量光瞳优化技术。光源-掩模-工艺多参数协同计算光刻包括含偏振像差、工件台振动误差、杂散光误差的光刻设备-掩模-工艺多参数协同优化技术。解决传统计算光刻在零误差假设、局域坐标系、理想远心、单个视场点获得的掩模-光源，无法最佳匹配实际光刻系统之所需，导致增加工艺迭代时间的问题。 |
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