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图书信息
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半导体芯片和制造:理论和工艺实用指南
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| ISBN： | 9787111735519 |
定价： | ￥99.00 |
| 作者： | (美)廉亚光著 |
出版社： | 机械工业出版社 |
| 出版时间： | 2023年10月 |
开本： | 24cm |
| 页数： | 213页 |
装祯： | 平装 |
中图法： | TN430.5 |
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2026-06-19
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图书简介 | | 本书包括如下主题：基本概念，例如等离子设备中的阻抗失配和理论，以及能带和Clausius-Clapeyron方程；半导体器件和制造设备的基础知识，包括直流和交流电路、电场、磁场、谐振腔以及器件和设备中使用的部件；晶体管和集成电路，包括双极型晶体管、结型场效应晶体管和金属一半导体场效应晶体管；芯片制造的主要工艺，包括光刻、金属化、反应离子刻蚀(RIE)、等离子体增强化学气相沉积(PECVD)、热氧化和注入等；工艺设计和解决问题的技巧，例如如何设计干法刻蚀配方，以及如何解决在博世工艺中出现的微米草问题。 |
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