同类推荐
-
-
半导体演义:一颗芯片重塑世界秩序
-
¥99.00
-
-
先进光刻机曝光系统光学设计
-
¥120.00
-
-
先进光刻机曝光系统光学设计
-
¥120.00
-
-
先进光刻机曝光系统光学设计
-
¥120.00
-
-
超低功耗半导体器件与技术
-
¥99.00
-
-
超低功耗半导体器件与技术
-
¥99.00
-
-
超低功耗半导体器件与技术
-
¥99.00
-
-
漫谈半导体器件原理
-
¥89.00
-
-
氮化镓单晶材料与器件
-
¥118.00
-
-
氮化镓单晶材料与器件
-
¥118.00
|
|
图书信息
|
|
|
|
真空镀膜设备
|
| ISBN: | 9787502450144 |
定价: | ¥26.00 |
| 作者: | 张以忱编著 |
出版社: | 冶金工业出版社 |
| 出版时间: | 2009年08月 |
开本: | 21cm |
| 页数: | 205页 |
中图法: | TN305.8 |
印次: | 0 |
相关供货商
|
供货商名称
|
库存量
|
库区
|
更新日期
|
|
|
|
|
|
|
其它供货商库存合计
|
280
|
|
2026-08-17
|
图书简介 | | 本书内容包括:真空镀膜设备设计概述;真空镀膜室结构设计计算;镀膜室升降机构的设计;镀膜室工件架的设计;真空镀膜机的加热与测温装置等。 |
|