同类推荐
-
-
RTL设计师面试攻略:芯片从设计到交付的全流程
-
¥68.00
-
-
RTL设计师面试攻略:芯片从设计到交付的全流程
-
¥68.00
-
-
RTL设计师面试攻略:芯片从设计到交付的全流程
-
¥68.00
-
-
Cadence Allegro X 24.1实战必备教程
-
¥65.00
-
-
芯片测试与安全
-
¥59.00
-
-
玩转高速电路:基于ANSYS HFSS的无源仿真实例
-
¥89.00
-
-
玩转高速电路:基于ANSYS HFSS的无源仿真实例
-
¥89.00
-
-
玩转高速电路:基于ANSYS HFSS的无源仿真实例
-
¥89.00
-
-
CMOS射频集成电路设计与仿真
-
¥99.00
-
-
MEMS惯性传感器接口芯片集成技术
-
¥138.00
|
|
图书信息
|
|
|
|
计算光刻与版图优化
|
| ISBN： | 9787121402265 |
定价： | ￥79.00 |
| 作者： | 韦亚一[等]著 |
出版社： | 电子工业出版社 |
| 出版时间： | 2021年01月 |
开本： | 26cm |
| 页数： | 10,238页 |
中图法： | TN405.98 |
相关供货商
|
供货商名称
|
库存量
|
库区
|
更新日期
|
|
北京人天书店有限公司
|
50
|
库区4/样本4
|
2025-12-20
|
|
其它供货商库存合计
|
610
|
|
2025-12-19
|
图书简介 | | 本书共7章，首先对集成电路设计与制造的流程做简要介绍，接着介绍集成电路物理设计(版图设计)的全流程，然后介绍光刻模型、分辨率增强技术、刻蚀效应修正、可制造性设计，最后介绍设计与工艺协同优化。 |
|