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图书信息
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计算光刻与版图优化
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| ISBN： | 9787121402265 |
定价： | ￥79.00 |
| 作者： | 韦亚一[等]著 |
出版社： | 电子工业出版社 |
| 出版时间： | 2021年01月 |
开本： | 26cm |
| 页数： | 10,238页 |
中图法： | TN405.98 |
相关供货商
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供货商名称
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库存量
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库区
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更新日期
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北京人天书店有限公司
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44
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库区4/样本4
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2026-07-05
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其它供货商库存合计
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659
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2026-07-03
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图书简介 | | 本书共7章，首先对集成电路设计与制造的流程做简要介绍，接着介绍集成电路物理设计(版图设计)的全流程，然后介绍光刻模型、分辨率增强技术、刻蚀效应修正、可制造性设计，最后介绍设计与工艺协同优化。 |
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