同类推荐
-
-
先进光刻机曝光系统光学设计
-
¥120.00
-
-
先进光刻机曝光系统光学设计
-
¥120.00
-
-
先进光刻机曝光系统光学设计
-
¥120.00
-
-
漫谈半导体器件原理
-
¥89.00
-
-
氮化镓单晶材料与器件
-
¥118.00
-
-
氮化镓单晶材料与器件
-
¥118.00
-
-
氮化镓单晶材料与器件
-
¥118.00
-
-
半导体显示电子学
-
¥49.00
-
-
先进的高压大功率器件:原理、特性和应用
-
¥168.00
-
-
宽禁带功率半导体器件特性测试
-
¥129.00
|
|
图书信息
|
|
|
|
简明光刻手册
|
| ISBN： | 9787566148889 |
定价： | ￥98.00 |
| 作者： | 王云翔著 |
出版社： | 哈尔滨工程大学出版社 |
| 出版时间： | 2026年01月 |
版次： | 1版 |
| 开本： | 29cm |
页数： | 373页 |
中图法： | TN305.7-62 |
相关供货商
|
供货商名称
|
库存量
|
库区
|
更新日期
|
|
北京人天书店有限公司
|
66
|
库区3/样本3
|
2026-07-27
|
|
其它供货商库存合计
|
264
|
|
2026-07-27
|
图书简介 | | 本书系统地介绍了光刻技术的基础理论、核心工艺、关键材料及相关应用。内容涵盖光刻技术的多个方面，主要包括六大部分：光刻技术概述、光刻技术的基础、掩模版、光刻基本工艺流程、光刻胶以及光刻相关工艺。 |
|