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图书信息
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纳米压印光刻技术专利分析
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| ISBN： | 9787524503149 |
定价： | ￥88.00 |
| 作者： | 朱月仙[等]编著 |
出版社： | 知识产权出版社有限责任公司 |
| 出版时间： | 2026年04月 |
开本： | 26cm |
| 页数： | 182页 |
中图法： | TN305.7-18 |
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58
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2026-08-17
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图书简介 | | 本书主要针对纳米压印光刻技术开展专利导航分析，通过技术和产业调研，梳理了技术与产业发展现状及未来趋势，旨在为科技与产业界提供参考。全书从宏观、中观与微观三个层面，分析了全球及中国在纳米压印光刻领域的创新态势、专利布局、关键技术竞争格局以及行业巨头的核心专利技术路线，识别我国在该领域相较于全球领先国家的差距与优势，为未来产业创新发展、技术路径选择、知识产权风险规避和高价值专利布局提供决策支撑。 |
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