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图书信息
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纳米压印光刻技术专利分析
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| ISBN： | 9787524503149 |
定价： | ￥88.00 |
| 作者： | 朱月仙等编著 |
出版社： | 知识产权出版社 |
| 出版时间： | 2025年12月 |
开本： | 26cm |
| 页数： | 250页 |
中图法： | TN305.7-18 |
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2026-06-23
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图书简介 | | 本研究开展纳米压印光刻技术专利导航分析，通过技术和产业调研，明晰技术和产业发展现状、未来发展方向和趋势，为科技界与产业界提供参考；另外，结合创新主体研发和产业化需求，从专利宏观、中观、微观三个视角，分析全球与中国纳米压印光刻技术创新态势、专利布局、关键技术竞争格局，行业巨头核心专利技术路线。结合多个维度深入分析，寻找我国纳米压印光刻领域与全球领先国家存在的差距以及拥有的优势，为未来产业发展、创新路径选择、潜在知识产权风险规避、高价值专利布局等提供决策参考。 |
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