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图书信息
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集成电路制造工艺与模拟
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| ISBN： | 9787122465375 |
定价： | ￥89.00 |
| 作者： | 孙晓东，律博，宋文斌编著 |
出版社： | 化学工业出版社 |
| 出版时间： | 2025年01月 |
开本： | 26cm |
| 页数： | 184页 |
装祯： | 平装 |
中图法： | TN405 |
相关供货商
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供货商名称
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库存量
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库区
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更新日期
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北京人天书店有限公司
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42
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库区13/泰安展厅库/样本13
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2026-03-22
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其它供货商库存合计
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500
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2026-03-20
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图书简介 | | 本书内容涵盖集成电路制造工艺及模拟仿真知识。详细介绍了集成电路的发展史及产业发展趋势、集成电路制造工艺流程及模拟仿真基础、集成电路制造的材料及相关环境、晶圆的制备与加工；具体讲解了氧化、淀积、金属化、光刻、刻蚀、离子注入、平坦化等关键工艺步骤的理论，对氧化、光刻、离子注入等步骤进行工艺模拟仿真，对关键的光刻工艺进行虚拟操作模拟；以NMOS器件为例，介绍了基本CMOS工艺流程及其模拟过程。 |
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