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图书信息
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光刻技术:here is why
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| ISBN： | 9787122451514 |
定价： | ￥198.00 |
| 作者： | 林本坚著 |
出版社： | 化学工业出版社 |
| 出版时间： | 2024年08月 |
开本： | 26cm |
| 页数： | 369页 |
装祯： | 精装 |
中图法： | TN305.7 |
相关供货商
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供货商名称
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库存量
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库区
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更新日期
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北京人天书店有限公司
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39
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库区13/泰安展厅库
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2025-10-30
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其它供货商库存合计
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40
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2025-10-30
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图书简介 | | 本书是为新入门或具有一定经验的相关领域工程师、技术经理和高级技术人员编写的，他们希望加强自己对光刻系统图像形成的物理学理解。通过对本书的学习，读者将掌握驱动光学光刻的基本方程和常数的相关知识，学习曝光系统和图像形成的基础理论，并全面了解光刻系统组件、处理和优化的相关知识；读者还可掌握光学光刻技术的前景和总体情况，加强对半导体制造技术的认知。本书第二版融合了作者在研究、教学和世界级大批量制造方面的独特经验，添加了接近印刷方面的全新材料，以及曝光系统、图像形成、E-D方法、硬件组件、处理和优化方面的更新和扩展材料，以及EUV技术和最新的浸没式光刻相关技术。 |
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