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图书信息
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半导体干法刻蚀技术
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| ISBN： | 9787111742029 |
定价： | ￥89.00 |
| 作者： | (日)野尻一男著 |
出版社： | 机械工业出版社 |
| 出版时间： | 2024年01月 |
开本： | 24cm |
| 页数： | 10,161页 |
装祯： | 平装 |
中图法： | TN305.7 |
相关供货商
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北京人天书店有限公司
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60
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库区13/库区2/库区3/库区4/库区7/样本13/样本3/样本4/样本7
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2025-10-30
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其它供货商库存合计
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500
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2025-10-30
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图书简介 | | 本书不仅介绍了半导体器件中所涉及材料的刻蚀工艺，而且对每种材料的关键刻蚀参数、对应的等离子体源和刻蚀气体化学物质进行了详细解释。本书讨论了具体器件制造流程中涉及的干法刻蚀技术，介绍了半导体厂商实际使用的刻蚀设备的类型和等离子体产生机理，例如电容耦合型等离子体、磁控反应离子刻蚀、电子回旋共振等离子体和电感耦合型等离子体，并介绍了原子层沉积等新型刻蚀技术。 |
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