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图书信息
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半导体干法刻蚀技术:原子层工艺
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| ISBN： | 9787111734260 |
定价： | ￥119.00 |
| 作者： | (美)索斯藤·莱尔(Thorsten Lill)著 |
出版社： | 机械工业出版社 |
| 出版时间： | 2023年09月 |
开本： | 24cm |
| 页数： | 14,225页 |
装祯： | 平装 |
中图法： | TN305.7 |
相关供货商
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供货商名称
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库存量
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库区
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更新日期
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北京人天书店有限公司
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16
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库区13/库区3/库区4/样本4
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2026-08-20
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其它供货商库存合计
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318
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2026-08-20
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图书简介 | | 集成电路制造向几纳米节点工艺的发展，需要具有原子级保真度的刻蚀技术，原子层刻蚀(ALE)技术应运而生。本书主要内容有：热刻蚀、热各向同性ALE、自由基刻蚀、定向ALE、反应离子刻蚀、离子束刻蚀等，探讨了尚未从研究转向半导体制造的新兴刻蚀技术，涵盖了定向和各向同性ALE的全新研究和进展。本书以特定的刻蚀应用作为所讨论机制的示例，例如栅极刻蚀、接触孔刻蚀或3DNAND通道孔刻蚀，有助于对所有干法刻蚀技术的原子层次理解。 |
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