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图书信息
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半导体先进光刻理论与技术
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| ISBN： | 9787122432766 |
定价： | ￥198.00 |
| 作者： | (德)安德里亚斯·爱德曼(Andreas Erdmann)著 |
出版社： | 化学工业出版社 |
| 出版时间： | 2023年08月 |
开本： | 24cm |
| 页数： | 304页 |
装祯： | 精装 |
中图法： | TN305.7 |
相关供货商
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供货商名称
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库存量
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库区
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更新日期
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北京人天书店有限公司
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14
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库区13/样本13
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2026-02-16
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其它供货商库存合计
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177
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2026-02-13
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图书简介 | | 本书是半导体先进光刻领域的综合性著作，介绍了当前主流的光学光刻、先进的极紫外光刻以及下一代光刻技术。主要内容涵盖光刻理论、工艺、材料、设备、关键部件、分辨率增强、建模与仿真、典型物理与化学效应等；介绍了光刻技术的前沿进展，还总结了极紫外光刻的特点、存在问题与发展方向。书中融入了作者对光刻技术的宝贵理解与认识，是作者多年科研与教学经验的结晶。 |
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