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图书信息
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光学光刻和极紫外光刻
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| ISBN： | 9787547857205 |
定价： | ￥195.00 |
| 作者： | (德)安迪·爱德曼(Andreas Erdmann)著 |
出版社： | 上海科学技术出版社 |
| 出版时间： | 2023年01月 |
开本： | 24cm |
| 页数： | 316页 |
中图法： | TN305.7 |
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2026-02-16
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图书简介 | | 本书是一本最新的光刻技术专著，内容涉及该领域各个重要方面。在介绍光刻技术应用上，作者涵盖了全面又丰富的内容。在论述光刻技术的物理机制和数学模型时，作者采用了完整但不繁琐的方法，增加了该书的可读性。该书在完整地解释了光学光刻技术的基本内容后，专门开辟章节，介绍了最先进的极紫外光刻技术的特点和难点，揭示了极紫外光刻的技术奥秘。 |
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