同类推荐
-
-
功率半导体器件原理及设计
-
¥69.00
-
-
碳化硅MOSFET封装、驱动及应用
-
¥79.00
-
-
碳化硅MOSFET封装、驱动及应用
-
¥79.00
-
-
碳化硅MOSFET封装、驱动及应用
-
¥79.00
-
-
半导体器件与工艺
-
¥68.00
-
-
图解功率半导体
-
¥79.00
-
-
图解功率半导体
-
¥79.00
-
-
图解功率半导体
-
¥79.00
-
-
超宽禁带半导体金刚石单晶材料和场效应晶体管
-
¥139.00
-
-
超宽禁带半导体金刚石单晶材料和场效应晶体管
-
¥139.00
|
|
图书信息
|
|
|
|
真空镀膜技术与设备
|
| ISBN: | 9787502488802 |
定价: | ¥49.00 |
| 作者: | 张以忱主编 |
出版社: | 冶金工业出版社 |
| 出版时间: | 2021年08月 |
版次: | 2版 |
| 开本: | 26cm |
页数: | 299页 |
中图法: | TN305.8 |
相关供货商
|
供货商名称
|
库存量
|
库区
|
更新日期
|
|
|
|
|
|
|
其它供货商库存合计
|
600
|
|
2026-02-09
|
图书简介 | | 本书系统阐述了各种真空镀膜技术的基本概念和应用、真空镀膜机结构及蒸发源、磁控靶的设计计算、薄膜厚度的测量技术、薄膜与表面分析与检测技术;重点介绍了一些近年来新出现的镀膜方法与技术及真空镀膜机设计计算等方面的内容。 |
|