同类推荐
-
-
数模集成电路设计基础教程
-
¥56.00
-
-
CMOS模拟集成电路版图设计与验证:基于Cadence…
-
¥129.00
-
-
现代SoC设计:基于ARM架构
-
¥169.00
-
-
集成电路版图设计实用教程
-
¥60.00
-
-
Altium Designer从零开始做工程之ATE载…
-
¥79.00
-
-
芯片制造:半导体离子注入技术与设备
-
¥89.00
-
-
EDA简史:半导体与集成电路设计技术的商业、生态与未来
-
¥89.00
-
-
EDA简史:半导体与集成电路设计技术的商业、生态与未来
-
¥89.00
-
-
EDA简史:半导体与集成电路设计技术的商业、生态与未来
-
¥89.00
-
-
集成电路硬件安全
-
¥79.00
|
|
图书信息
|
|
|
|
后摩尔时代集成电路新型互连技术
|
| ISBN: | 9787030534187 |
定价: | ¥98.00 |
| 作者: | 赵文生,王高峰,尹文言著 |
出版社: | 科学出版社 |
| 出版时间: | 2017年09月 |
开本: | 24cm |
| 页数: | 223页 |
装祯: | 平装 |
| 中图法: | TN4 |
印次: | 2021.01重印 |
相关供货商
|
供货商名称
|
库存量
|
库区
|
更新日期
|
|
|
|
|
|
|
其它供货商库存合计
|
202
|
|
2026-04-06
|
图书简介 | | 本书中简单介绍集成电路互连技术的发展和后摩尔时代集成电路所面临的互连极限难题,重点讨论碳纳米管、石墨烯互连线以及硅通孔互连的一些关键科学问题,包括碳纳米互连的参数提取和电路模型、硅通孔的电磁建模、新型硅通孔结构等。 |
|