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图书信息
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衍射极限附近的光刻工艺
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| ISBN： | 9787302537427 |
定价： | ￥168.00 |
| 作者： | 伍强等编著 |
出版社： | 清华大学出版社 |
| 出版时间： | 2020年02月 |
开本： | 26cm |
| 页数： | 19,653页 |
中图法： | TN305.7 |
相关供货商
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供货商名称
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库存量
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库区
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更新日期
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北京人天书店有限公司
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3
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库区3
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2026-02-17
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图书简介 | | 本书将对光刻从设备、材料和工艺以及工艺仿真作一个全面的展示。尤其将针对临近衍射极限的光刻技术，比如193nm浸没式光刻技术作一个重点地阐述。针对国内缺乏的光刻设备和先进光化学材料的技术情况下，本书试图在深度上有所突破，比如在光刻机的结构设计，校准，以及各主要零部件所应该达到的尺寸规格和机械精度、测控性能作深入的探讨。 |
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