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图书信息
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超大规模集成电路先进光刻理论与应用
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| ISBN： | 9787030482686 |
定价： | ￥359.00 |
| 作者： | 韦亚一著 |
出版社： | 科学出版社 |
| 出版时间： | 2016年06月 |
开本： | 25cm |
| 页数： | 15,558页 |
装祯： | 精装 |
| 中图法： | TN305.7 |
印次： | 2020.01重印 |
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203
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2025-12-19
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图书简介 | | 本书覆盖现代光刻技术的主要方面，包括设备、材料、仿真(计算光刻)和工艺。内容直接取材于国际先进集成电路制造技术，为了保证先进性，特别侧重于32nm节点以下的技术。书中引用了很多工艺实例，这些实例都是经过生产实际验证的，希望能对读者有所启发。 |
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