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图书信息
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纳米级CMOS超大规模集成电路可制造性设计
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| ISBN： | 9787030400345 |
定价： | ￥58.00 |
| 作者： | (美)Sandip,Kundu，(印)Aswin,Sreedhar著 |
出版社： | 科学出版社 |
| 出版时间： | 2014年05月 |
开本： | 24cm |
| 页数： | 11,261页 |
装祯： | 平装 |
中图法： | TN432.02 |
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83
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2026-05-01
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图书简介 | | 本书的内容包括：CMOSVLSI电路设计的技术趋势；半导体制造技术；光刻技术；工艺和器件的扰动和缺陷分析与建模；面向可制造性的物理设计技术；测量、制造缺陷和缺陷提取；缺陷影响的建模和合格率提高技术；物理设计和可靠性；DFM工具和DFM方法。 |
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