同类推荐
-
-
半导体演义:一颗芯片重塑世界秩序
-
¥99.00
-
-
先进光刻机曝光系统光学设计
-
¥120.00
-
-
先进光刻机曝光系统光学设计
-
¥120.00
-
-
先进光刻机曝光系统光学设计
-
¥120.00
-
-
超低功耗半导体器件与技术
-
¥99.00
-
-
超低功耗半导体器件与技术
-
¥99.00
-
-
超低功耗半导体器件与技术
-
¥99.00
-
-
漫谈半导体器件原理
-
¥89.00
-
-
氮化镓单晶材料与器件
-
¥118.00
-
-
氮化镓单晶材料与器件
-
¥118.00
|
|
图书信息
|
|
|
|
真空镀膜设备
|
| ISBN： | 9787502450144 |
定价： | ￥42.00 |
| 作者： | 张以忱编著 |
出版社： | 冶金工业出版社 |
| 出版时间： | 2009年08月 |
开本： | 21cm |
| 页数： | 205页 |
中图法： | TN305.8 |
相关供货商
|
供货商名称
|
库存量
|
库区
|
更新日期
|
|
|
|
|
|
|
其它供货商库存合计
|
2
|
|
2026-08-06
|
图书简介 | | 本书详细介绍了真空镀膜设备的设计方法与镀膜设备各机构元件的设计计算、设计参数的选择，其中重点、系统地介绍了磁控溅射靶的设计计算和溅射镀膜的膜厚均匀性设计。全书共分13章，主要讲解真空镀膜室结构、镀膜室工件架、真空镀膜机的加热与测温装置、真空镀膜机的抽气系统、真空室电和运动的导人结构、溅射镀膜设备的充布气系统、蒸发源、磁控溅射靶、溅射镀膜的膜厚均匀性等方面的设计与计算。 |
|