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图书信息
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近场空间背景纹影定量测试技术
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| ISBN： | 9787516545331 |
定价： | ￥48.00 |
| 作者： | 吴军等著 |
出版社： | 航空工业出版社 |
| 出版时间： | 2026年08月 |
开本： | 26cm |
| 页数： | 89页 |
中图法： | O354 |
图书简介 | | 全书共六章。第一章绪论阐述近场流场测试的意义，分析传统纹影法的局限性及背景纹影法的优势与挑战。第二章介绍传统背景纹影法的光路模型与解算方法，包括偏折角与折射率关系以及Abel、Radon逆变换算法。第三章提出基于角动量守恒的偏折角精确解析方法，提升近场温度场重构精度。第四章探讨多物理场同步重构技术，结合三维光线追迹与PIV-光流算法，实现密度、速度等多参数测量。第五章针对欠采样场景，提出压缩感知重构模型，优化非轴对称折射率场反演。第六章介绍干涉条纹纹影与光场成像纹影技术，通过仿真与实验验证其高精度。 |
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