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图书信息
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Ⅲ族氮化物薄膜生长与测试
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| ISBN： | 9787030826480 |
定价： | ￥98.00 |
| 作者： | 王文樑, 编著 |
出版社： | 科学出版社 |
| 出版时间： | 2025年08月 |
版次： | 1版 |
| 开本： | 24 |
页数： | 231页 |
| 装祯： | 平装 |
中图法： | TB43 |
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198
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2025-10-17
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图书简介 | | 本书聚焦国家半导体战略，系统论述了宽禁带半导体核心材料Ⅲ族氮化物的基础理论、制备技术与性能评估方法。第一篇从晶体结构、物理化学特性出发，解析材料在光电子与高功率器件中的应用机理；第二篇介绍了化学/物理气相沉积技术原理与工艺优化策略；第三篇阐述了光学、电学等性能多维度表征方法。同时，书中结合了研究团队创新成果，为学科发展和产业升级注入新动能。 |
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