同类推荐
-
-
卫生陶瓷施釉工艺
-
¥98.00
-
-
际遇
-
¥320.00
-
-
黄磷
-
¥280.00
-
-
粉煤灰表面改性及高附加值利用
-
¥80.00
-
-
基于RT-LAB的储能控制器参数辨识与储能电站等值建模
-
¥80.00
-
-
电镀添加剂总论
-
¥198.00
-
-
电镀配合物总论
-
¥248.00
-
-
电镀技术与装备
-
¥168.00
-
-
陶瓷基复合材料的高温力学行为与增韧机制
-
¥119.00
-
-
先进陶瓷自固化凝胶成型
-
¥118.00
|
|
图书信息
|
|
|
|
单晶金刚石的化学机械抛光方法及机理研究
|
| ISBN： | 9787561297803 |
定价： | ￥68.00 |
| 作者： | 史卓颖著 |
出版社： | 西北工业大学出版社 |
| 出版时间： | 2025年04月 |
开本： | 26cm |
| 页数： | 108页 |
中图法： | TQ164.8 |
相关供货商
|
供货商名称
|
库存量
|
库区
|
更新日期
|
|
北京人天书店有限公司
|
200
|
库区3
|
2025-07-17
|
|
其它供货商库存合计
|
37
|
|
2025-06-27
|
图书简介 | | 本书共6章，内容包括绪论、·OH环境下金刚石常温CMP的可行性的MID分析、金刚石常温CMP抛光液的研究、金刚石常温CMP的工艺研究、基于Fenton抛光液的金刚石CMP中的机械作用和氧化作用、Fenton抛光液在金刚石不同晶面CMP中的抛光性能等。 |
|