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图书信息
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单晶金刚石的化学机械抛光方法及机理研究
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| ISBN： | 9787561297803 |
定价： | ￥68.00 |
| 作者： | 史卓颖著 |
出版社： | 西北工业大学出版社 |
| 出版时间： | 2025年04月 |
开本： | 26cm |
| 页数： | 108页 |
中图法： | TQ164.8 |
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2026-08-14
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图书简介 | | 本书共6章，内容包括绪论、·OH环境下金刚石常温CMP的可行性的MID分析、金刚石常温CMP抛光液的研究、金刚石常温CMP的工艺研究、基于Fenton抛光液的金刚石CMP中的机械作用和氧化作用、Fenton抛光液在金刚石不同晶面CMP中的抛光性能等。 |
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