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图书信息
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单晶金刚石的化学机械抛光方法及机理研究
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| ISBN: | 9787561297803 |
定价: | ¥68.00 |
| 作者: | 史卓颖著 |
出版社: | 西北工业大学出版社 |
| 出版时间: | 2025年04月 |
开本: | 26cm |
| 页数: | 108页 |
中图法: | TQ164.8 |
相关供货商
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供货商名称
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库存量
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更新日期
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北京人天书店有限公司
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76
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库区3/样本3
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2025-12-20
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其它供货商库存合计
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3
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2025-12-19
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图书简介 | | 本书共6章,内容包括绪论、·OH环境下金刚石常温CMP的可行性的MID分析、金刚石常温CMP抛光液的研究、金刚石常温CMP的工艺研究、基于Fenton抛光液的金刚石CMP中的机械作用和氧化作用、Fenton抛光液在金刚石不同晶面CMP中的抛光性能等。 |
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