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图书信息
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热丝化学气相沉积技术:technology and applications of Cat-CVD
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| ISBN： | 9787122456632 |
定价： | ￥198.00 |
| 作者： | (日)松村英树(Hideki Matsumura)[等]著 |
出版社： | 化学工业出版社 |
| 出版时间： | 2024年07月 |
开本： | 27cm |
| 页数： | 345页 |
装祯： | 精装 |
中图法： | TG174.444 |
相关供货商
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供货商名称
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库存量
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库区
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更新日期
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北京人天书店有限公司
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14
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库区13/库区4/泰安展厅库/样本13/样本4
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2026-03-23
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其它供货商库存合计
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500
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2026-03-20
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图书简介 | | 本书系统介绍了Cat-CVD技术，括其基本原理、设备设计及应用。具体括Cat-CVD的物理基础及其与等离子增强化学气相沉积的区别、Cat-CVD中化学反应的分析方法及基本原理、Cat-CVD的物理化学基础、Cat-CVD制备的无机薄膜性能、引发化学气相沉积(iCVD)合成有机聚合物、Cat-CVD设备运行中的物理基础与技术、Cat-CVD在太阳电池和各种半导体器件中的应用、Cat-CVD系统中的活性基团及其应用，后介绍了利用Cat-CVD腔室中产生的活性基团，在低温下进行半导体掺杂。 |
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