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图书信息
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Zemax光学设计实践基础
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| ISBN： | 9787121466243 |
定价： | ￥42.00 |
| 作者： | 施跃春，吴平辉，陈家璧编著 |
出版社： | 电子工业出版社 |
| 出版时间： | 2023年12月 |
开本： | 26cm |
| 页数： | 194页 |
中图法： | TN202 |
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636
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2025-12-15
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图书简介 | | 本书注重Zemax光学设计实践，同时为了实践联系理论，各章节先简单介绍相关理论或背景，然后落实在具体Zemax设计方法上。本书首先给出Zemax光学设计入门操作、优化的基本概念、透镜基本原理与基本优化设计、平面系统设计、光束限制设计与多重结构设计、光能计算、像差计算；然后给出像质评价、Zemax优化设计方法、面向光通信模块的4个设计案例和面向成像镜头的三片式成像系统及苹果手机镜头设计案例；最后给出超构透镜与Zemax联合设计案例。 |
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