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图书信息
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掺杂GaN纳米线制备技术
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| ISBN： | 9787502496401 |
定价： | ￥72.00 |
| 作者： | 崔真，吴辉，李恩玲著 |
出版社： | 冶金工业出版社 |
| 出版时间： | 2023年10月 |
开本： | 24cm |
| 页数： | 158页 |
中图法： | TB383 |
相关供货商
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供货商名称
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库存量
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库区
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更新日期
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北京人天书店有限公司
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36
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库区2/库区3/库区4/库区7/泰安展厅库/样本3
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2026-04-26
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其它供货商库存合计
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600
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2026-04-20
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图书简介 | | 本书以西安理工大学光电材料制备与器件设计团队近20年所开展的CaN基材料制备与场发射特性研究为依托，通过化学气相沉积法可控制备了Te掺杂、Sn掺杂、P掺杂、Ge掺杂、Sb掺杂、C-Sn共掺杂、Se-Te共掺杂GaN纳米线，阐明了这些掺杂GaN纳米线的合成机理，发现它们因具有低的功函数而具有优异的光电和场发射特性。 |
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