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图书信息
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磁共振成像技术与应用
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| ISBN： | 9787547857892 |
定价： | ￥288.00 |
| 作者： | 汤光宇，李懋主编 |
出版社： | 上海科学技术出版社 |
| 出版时间： | 2023年01月 |
开本： | 29cm |
| 页数： | 480页 |
装祯： | 精装 |
中图法： | R445.2 |
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2026-06-15
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图书简介 | | 本书在介绍磁共振成像基本原理、基本序列、扫描参数的基础上，重点对磁共振快速成像技术、磁共振成像相关伪影及处理、脂肪抑制技术、磁共振血管成像、磁共振扩散加权成像、磁共振灌注成像、磁共振脑功能成像、磁共振波谱、磁共振定量技术等磁共振成像基本技术和最新技术的原理及应用进行了阐述。本书是以MR技术为导线，对国内外的文献进行综合、分类、归纳，阐述MR其成像原理、参数合理应用、技术优缺点、相关的临床或科研应用，保证了本书的科学性和实用性。 |
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