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图书信息
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产业专利分析报告（第84册）——高端光刻机
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| ISBN： | 9787513081955 |
定价： | ￥70.00 |
| 作者： | 国家知识产权局学术委员会组织编写 |
出版社： | 知识产权出版社有限责任公司 |
| 出版时间： | 2022年07月 |
开本： | 26cm |
| 页数： | 149页 |
中图法： | G306.71;TN305.7 |
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2026-02-02
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图书简介 | | 本书是高端光刻机领域的专利分析报告，从该领域的发展概况、专利壁垒指数模型研究、竞争情报，主要技术分支专利等方面入手，充分结合相关数据展开分析，得出扎实的研究结论和相关建议。主要内容包括：概况、专利壁垒指数模型研究、高端光刻机全球竞争情报分析、EUV光源专利分析、投影物镜专利分析等。 |
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