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图书信息
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硅技术的发展和未来
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| ISBN： | 9787502445362 |
定价： | ￥50.00 |
| 作者： | (法)P.希弗特(P. Siffert)，(德)E.克瑞梅尔(E. F. Krimmel)编著 |
出版社： | 冶金工业出版社 |
| 出版时间： | 2009年02月 |
开本： | 24cm |
| 页数： | 15,480页 |
中图法： | TQ127.2 |
印次： | 0 |
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80
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2026-02-09
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图书简介 | | 本书涵盖了半导体硅及硅基材料、多晶硅和光伏技术、硅外延和薄膜、硅掺杂、器件、化合物半导体、晶格缺陷、杂质影响等多方面的内容，并涉及量子计算机、碳纳米管在微电子中的应用、情境智能系统、大脑半导体等诸多新概念。 |
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