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图书信息
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大遗址保护关键技术研究与开发:Ⅱ
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| ISBN： | 9787501030835 |
定价： | ￥165.00 |
| 作者： | 科技部社会发展科技司，国家文物局博物馆与社会文物司(科技司)编 |
出版社： | 文物出版社 |
| 出版时间： | 2010年11月 |
开本： | 26cm |
| 页数： | 662页 |
装祯： | 精装 |
| 中图法： | K203-53 |
印次： | 0 |
相关供货商
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北京人天书店有限公司
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2026-08-20
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2026-08-06
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图书简介 | | 全书分为古代壁画脱盐关键技术研究和土遗址保护关键技术研究两部分，收录包括：《莫高窟第351窟壁画疱疹和壁画地仗可溶盐分析》、《敦煌莫高窟第85窟空鼓壁画修复技术研究》、《战国秦时期夯土长城加固强度试验研究》、《楠竹加筋复合锚杆管材力学性能试验研究》、《土遗址墙体含水量与电阻率关系研究》等。 |
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