同类推荐
-
-
层状复合陶瓷:设计、制备及性能调控:design, f…
-
¥178.00
-
-
高熵碳化物陶瓷制备与连接技术
-
¥119.00
-
-
高熵碳化物陶瓷制备与连接技术
-
¥119.00
-
-
高熵碳化物陶瓷制备与连接技术
-
¥119.00
-
-
高品质机制砂
-
¥60.00
-
-
高品质机制砂
-
¥60.00
-
-
高品质机制砂
-
¥60.00
-
-
离子液体生物技术
-
¥198.00
-
-
离子液体生物技术
-
¥198.00
-
-
离子液体生物技术
-
¥198.00
|
|
图书信息
|
|
|
|
多相流旋转耦合场制备Si3N4颗粒雾化过程流场分析
|
| ISBN： | 9787563976836 |
定价： | ￥56.00 |
| 作者： | 廖达海，宁翔，吴南星著 |
出版社： | 北京工业大学出版社 |
| 出版时间： | 2021年10月 |
开本： | 24cm |
| 页数： | 126页 |
中图法： | TQ174.75 |
相关供货商
|
供货商名称
|
库存量
|
库区
|
更新日期
|
|
|
|
|
|
|
其它供货商库存合计
|
1207
|
|
2026-09-10
|
图书简介 | | 本书深人地阐述了多相流旋转耦合场制备Si3N4颗粒的雾化过程，同时重点对雾化喷嘴结构与多相流旋转耦合场制备Si3N4颗粒的雾化效果进行了详细、系统的论述。 |
|