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图书信息
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多相流旋转耦合场制备Si3N4颗粒雾化过程流场分析
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| ISBN： | 9787563976836 |
定价： | ￥56.00 |
| 作者： | 廖达海，宁翔，吴南星著 |
出版社： | 北京工业大学出版社 |
| 出版时间： | 2021年10月 |
开本： | 24cm |
| 页数： | 126页 |
中图法： | TQ174.75 |
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821
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2026-02-05
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图书简介 | | 本书深人地阐述了多相流旋转耦合场制备Si3N4颗粒的雾化过程，同时重点对雾化喷嘴结构与多相流旋转耦合场制备Si3N4颗粒的雾化效果进行了详细、系统的论述。 |
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