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图书信息
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硅基高k氧化物锶硅界面缓冲层的研究
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| ISBN： | 9787568410304 |
定价： | ￥35.00 |
| 作者： | 杜文汉著 |
出版社： | 江苏大学出版社 |
| 出版时间： | 2018年12月 |
开本： | 22cm |
| 页数： | 123页 |
中图法： | O48 |
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2026-08-06
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图书简介 | | 本书借助STM这个可以提供原子尺度结构和电子态的有力工具，对Sr/Si体系进行了研究，主要分为以下3个部分：Si(100)衬底上的Sr/Si再构；Si(111)衬底上的Sr/Si再构；超薄SrTiO3膜的高温晶化。 |
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