同类推荐
-
-
钛冶炼科学与技术
-
¥148.00
-
-
钛冶炼科学与技术
-
¥148.00
-
-
钛冶炼科学与技术
-
¥148.00
-
-
有色金属及其应用
-
¥35.00
-
-
铜电解精炼铜砷迁移转化规律及净化技术
-
¥98.00
-
-
铜电解精炼铜砷迁移转化规律及净化技术
-
¥98.00
-
-
铜电解精炼铜砷迁移转化规律及净化技术
-
¥98.00
-
-
硅热法镁冶炼设备与工艺
-
¥69.00
-
-
硅热法镁冶炼设备与工艺
-
¥69.00
-
-
硅热法镁冶炼设备与工艺
-
¥69.00
|
|
图书信息
|
|
|
|
磁控溅射制备氮化铜薄膜的结构与性能
|
| ISBN: | 9787517074397 |
定价: | ¥57.00 |
| 作者: | 肖剑荣著 |
出版社: | 中国水利水电出版社 |
| 出版时间: | 2019年04月 |
开本: | 24cm |
| 页数: | 173页 |
中图法: | TF811 |
相关供货商
|
供货商名称
|
库存量
|
库区
|
更新日期
|
|
北京人天书店有限公司
|
8
|
库区3/库区5/样本3
|
2026-09-24
|
|
其它供货商库存合计
|
59
|
|
2026-09-24
|
图书简介 | | 磁控溅射是一种通用、成熟的薄膜制备工艺技术,其制备工艺可调剂参数较多,通过精细控制能够实现对薄膜结构的有效调控。本书研究了薄膜的工艺参数、薄膜结构与性能等之间的内在关系,探讨了薄膜的电子输运、光学带隙、热稳定性的有关物理量的变化机制。 |
|