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图书信息
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薄膜技术与应用
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| ISBN： | 9787561247396 |
定价： | ￥39.00 |
| 作者： | 冯丽萍，刘正堂编著 |
出版社： | 西北工业大学出版社 |
| 出版时间： | 2016年02月 |
开本： | 26cm |
| 页数： | 222页 |
中图法： | TB43 |
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2026-06-29
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图书简介 | | 本书为研究生高水平课程教材，全书主要内容包括真空技术基础、真空蒸发镀膜、分子束外延生长、激光脉冲沉积、离子镀和离子束沉积、化学气相沉积、原子层沉积(ALD)镀膜、溶液镀膜法和自组装膜等。 |
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