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图书信息
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薄膜技术与薄膜材料
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| ISBN： | 9787122226181 |
定价： | ￥30.00 |
| 作者： | 石玉龙，闫凤英编著 |
出版社： | 化学工业出版社 |
| 出版时间： | 2015年03月 |
开本： | 21cm |
| 页数： | 242页 |
中图法： | TB43;TB383 |
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2026-04-24
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图书简介 | | 本书共4章，分别阐述了材料表面防护装饰膜层的物理气相沉积技术(包括真空蒸发镀膜、溅射镀膜、离子镀镀膜)，化学气相沉积技术(包括简单的CVD相关理论、设备装置、CVD种类等)，硬膜及超硬膜的制备技术(金刚石膜、类金刚石膜、立方氮化硼膜、CNx膜及氮化物、碳化物、氧化物薄膜及复合薄膜等)，以及利用化学、电化学反应在材料表面制备膜层的技术(包括化学镀、化学氧化、钝化、磷化，电镀、阳极氧化、微弧氧化等内容)。 |
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