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图书信息
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多弧离子镀沉积过程的计算机模拟
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| ISBN： | 9787502462277 |
定价： | ￥26.00 |
| 作者： | 赵时璐著 |
出版社： | 冶金工业出版社 |
| 出版时间： | 2013年04月 |
开本： | 21cm |
| 页数： | 232页 |
中图法： | TG174.444-39 |
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2026-06-18
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图书简介 | | 本书系统介绍了多弧离子镀沉积过程的计算机模拟。全书共分13章，主要内容包括：绪论；真空镀膜技术的介绍；多弧离子镀沉积过程模拟的理论基础；多弧离子镀物理过程的分析；计算机模拟技术；数学模型的建立；程序的编制等。 |
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