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图书信息
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先进晶体管技术发展及专利保护
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| ISBN： | 9787524505341 |
定价： | ￥108.00 |
| 作者： | 国家知识产权局专利局专利审查协作北京中心组织编写 |
出版社： | 知识产权出版社有限责任公司 |
| 出版时间： | 2026年06月 |
开本： | 26cm |
| 页数： | 252页 |
中图法： | D913.404 |
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55
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2026-10-09
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图书简介 | | 本书分为五个部分。第一部分简要概述了半导体产业的宏观态势，介绍了晶体管技术的演进历程与未来挑战，为读者构建完整的认知背景。第二、三部分是本书的核心分析部分，聚焦FinFET、GAAFET、CFET这三代核心的先进晶体管架构，运用详尽的专利数据，深度剖析全球范围内的专利布局现状与重点技术发展路径。第四部分从宏观分析转向微观实战，通过解析半导体领域经典诉讼案例，揭示专利战实貌，深入探讨领先企业的专利保护模式，提供构建知识产权防御体系的思路。第五部分，基于前述所有分析，尝试为我国先进晶体管技术的高质量发展与专利风险应对提出具有建设性的策略建议。 |
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