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图书信息
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物理气相沉积工艺及设备
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| ISBN: | 9787121516573 |
定价: | ¥99.00 |
| 作者: | 赵晋荣主编 |
出版社: | 电子工业出版社 |
| 出版时间: | 2026年01月 |
开本: | 24cm |
| 页数: | 13,191页 |
装祯: | 精装 |
中图法: | TG174.444 |
相关供货商
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供货商名称
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库存量
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库区
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更新日期
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北京人天书店有限公司
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1
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泰安展厅库
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2026-07-26
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图书简介 | | 本书系统地介绍了物理气相沉积工艺及设备的问题和解决方案,内容包括集成电路产业简介、等离子体的基本概念、物理气相沉积技术的发展与概述、逻辑芯片制造中的物理气相沉积工艺、封装技术中的物理气相沉积工艺、物理气相沉积设备、磁控技术。 |
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