同类推荐
-
-
水工金属结构腐蚀与防护
-
¥118.00
-
-
难变形金属耦合变形理论
-
¥320.00
-
-
难变形金属耦合变形理论
-
¥320.00
-
-
难变形金属耦合变形理论
-
¥320.00
-
-
光谱及图像技术在定量和定性检测中的应用研究
-
¥78.00
-
-
X射线底片焊缝缺陷检测与智能识别技术
-
¥180.00
-
-
压电超声导波检测技术及应用
-
¥198.00
-
-
压电超声导波检测技术及应用
-
¥198.00
-
-
压电超声导波检测技术及应用
-
¥198.00
-
-
高性能Ni-W-P非晶合金镀层的制备技术
-
¥60.00
|
|
图书信息
|
|
|
|
物理气相沉积工艺及设备
|
| ISBN： | 9787121516573 |
定价： | ￥98.00 |
| 作者： | 赵晋荣主编 |
出版社： | 电子工业出版社 |
| 出版时间： | 2026年01月 |
版次： | 1版 |
| 开本： | 24cm |
页数： | 13,191页 |
| 装祯： | 精装 |
中图法： | TG174.444 |
相关供货商
|
供货商名称
|
库存量
|
库区
|
更新日期
|
|
北京人天书店有限公司
|
101
|
库区13/样本13
|
2026-05-14
|
|
其它供货商库存合计
|
597
|
|
2026-05-14
|
图书简介 | | 本书系统地介绍了物理气相沉积工艺及设备的问题和解决方案，内容包括集成电路产业简介、等离子体的基本概念、物理气相沉积技术的发展与概述、逻辑芯片制造中的物理气相沉积工艺、封装技术中的物理气相沉积工艺、物理气相沉积设备、磁控技术。 |
|