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图书信息
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物理气相沉积工艺及设备
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| ISBN： | 9787121516573 |
定价： | ￥98.00 |
| 作者： | 赵晋荣主编 |
出版社： | 电子工业出版社 |
| 出版时间： | 2026年01月 |
版次： | 1版 |
| 开本： | 24cm |
页数： | 13,191页 |
| 装祯： | 精装 |
中图法： | TG174.444 |
相关供货商
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北京人天书店有限公司
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27
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库区13/样本13
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2026-03-10
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其它供货商库存合计
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603
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2026-03-10
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图书简介 | | 本书系统地介绍了物理气相沉积工艺及设备的问题和解决方案，内容包括集成电路产业简介、等离子体的基本概念、物理气相沉积技术的发展与概述、逻辑芯片制造中的物理气相沉积工艺、封装技术中的物理气相沉积工艺、物理气相沉积设备、磁控技术。 |
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