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图书信息
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声子和库仑杂质对二维材料中朗道能级的调控
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| ISBN： | 9787562976523 |
定价： | ￥71.00 |
| 作者： | 冀文慧，董永胜，杨洪涛著 |
出版社： | 武汉理工大学出版社 |
| 出版时间： | 2025年09月 |
版次： | 1版 |
| 开本： | 24cm |
页数： | 180页 |
中图法： | TB383 |
相关供货商
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供货商名称
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库区
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更新日期
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北京人天书店有限公司
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431
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库区3/库区6/样本6/一棵蓝2
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2026-06-17
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其它供货商库存合计
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759
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2026-06-17
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图书简介 | | 本书通过建立微观理论框架，采用线性组合算符和LLP变分法，讨论声子和库仑杂质对朗道能级带隙调控的影响，系统研究声子与库仑杂质对二维材料朗道能级的调控机制。针对垂直静磁场作用下的极性衬底上二维单层石墨烯和单层TMD结构，讨论载流子-声子Frhlich相互作用和带电杂质库仑屏蔽作用对石墨烯零朗道能级分裂和TMD带隙调控的影响，从而改进常量介电函数的近似情况。本书结构明了、内容丰富、数据翔实，可为二维材料在电子、光电子、能源、生物等众多领域的广泛应用开辟新路径，推动相关技术实现突破性发展。 |
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